المنتجات — أجهزة سلسلة XDM

سلسلة أجهزة PBLM® متكاملة تغطي مقاسات كبيرة ومتوسطة وصغيرة من 120 مم × 120 مم إلى 2000 مم × 2000 مم، مع برمجيات مطوّرة داخليًا ودعم لمسارات المسح المخصصة.

XDM 120

جهاز انصهار انتقائي بالليزر صغير الحجم عالي الكفاءة والدقة

طراز الدخول إلى سلسلة XDM، مصمّم للمختبرات ومراكز البحث والتطوير وخطوط الإنتاج الصغيرة التي تحتاج دقة عالية وتكلفة تشغيل منخفضة.

دقة مسح عالية تمنح تفاصيل تشكيل أكثر دقة
نظام رش مسحوق ثنائي الاتجاه لكفاءة تشكيل أعلى
نظام برمجيات مطوّر داخليًا مع فتح كامل لمعاملات العملية
دعم مسارات المسح المخصصة لحرية أكبر في التجارب

تفاصيل XDM 120

XDM 250

جهاز الانصهار الانتقائي بالليزر الكلاسيكي بمقاس بناء متقدّم

الطراز الكلاسيكي متوسط الحجم، يجمع بين مساحة بناء عملية وتصميم مرن يناسب مكاتب التصميم وورش الإنتاج المتوسطة الصغيرة.

تحسين مسارات الغاز بمحاكاة ديناميكا الموائع لجودة تصنيع أكثر ثباتًا
تصميم منفصل للمعدات الملحقة لمرونة أكبر في التركيب
نظام برمجيات مخصّص حسب الاستخدام ليؤدي الغرض في مختلف التطبيقات
دعم مسارات المسح المخصصة لحرية أكبر في التجارب

تفاصيل XDM 250

XDM 300

جهاز انصهار انتقائي بالليزر لإنتاج قطع عالية الجودة بكفاءة

طراز يركّز على الإنتاجية: مساحة بناء أكبر وإمكانية تشغيل حتى أربعة أشعة ليزر لتقليل زمن تصنيع الدفعات الكبيرة.

مساحة بناء 300 مم × 300 مم × 410 مم تناسب القطع الصناعية المتوسطة والكبيرة
إمكانية اختيار عدد أشعة الليزر حسب متطلبات الإنتاجية
تغذية مسحوق من الأسفل لتحكم أكثر استقرارًا في الطبقة
برمجيات XDM IntelliProc® و XDM IntelliMake® المطوّرة داخليًا

تفاصيل XDM 300

XDM 420/500

جهاز انصهار انتقائي بالليزر بأربعة أشعة ومساحة بناء كبيرة

منصة إنتاج صناعي واسعة: مساحة بناء تصل إلى 500 مم × 500 مم × 500 مم مع تكوين حتى أربعة أشعة ليزر وتغذية مسحوق مستمرة لخطوط الإنتاج المستمرة.

خياران لمساحة البناء ضمن منصة واحدة: 420 مم × 420 مم × 500 مم أو 500 مم × 500 مم × 500 مم
تغذية مسحوق مستمرة من الأعلى لدعم التشغيل المتواصل
تكوين بأربعة أشعة ليزر في طراز XDM 500 لرفع الإنتاجية
مناسب للقطع الصناعية الكبيرة والقوالب الضخمة

تفاصيل XDM 420/500

XDM 750

الجيل الجديد من أجهزة الانصهار الانتقائي بالليزر الفائقة الكبر

الجهاز الذي أعلنته الشركة في أكتوبر 2017 وكان حينها من أكبر أجهزة PBLM® عالميًا، بمساحة بناء 750 مم × 750 مم × 500 مم وأربعة أشعة ليزر.

مساحة بناء أكبر وقيود تصميم أقل
تحسين مسارات الغاز بمحاكاة ديناميكا الموائع لجودة تصنيع أكثر ثباتًا
نظام برمجيات مطوّر داخليًا مع فتح كامل لمعاملات العملية
دعم مسارات المسح المخصصة لحرية أكبر في التجارب

تفاصيل XDM 750

XDM 2000

جهاز انصهار انتقائي بالليزر فائق الكبر يدمج ابتكارات متعددة

أقصى ما تصل إليه سلسلة XDM من حيث الحجم والقدرة، للقطع والهياكل التي تتجاوز حدود الأجهزة الصناعية التقليدية.

أكبر مساحة بناء في سلسلة XDM: 2000 مم × 2000 مم × 650 مم
ستة أشعة ليزر بقدرة 500 واط لكل منها لرفع الإنتاجية
تغذية مسحوق مستمرة من الأعلى للتشغيل غير المتوقف
يجمع ابتكارات متعددة في منصة واحدة

تفاصيل XDM 2000

مقارنة الطرازات

اختر الطراز المناسب لحجم القطعة والإنتاجية

تتفاوت الطرازات في مساحة البناء وطريقة تغذية المسحوق وتكوين الليزر والوزن؛ ويمكن الانتقال إلى صفحة كل طراز للاطلاع على المواصفات الكاملة.

مقارنة سريعة بين طرازات سلسلة XDM (الحد الأدنى لسماكة الطبقة في جميع الطرازات 20 ميكرومتر، وطول موجة الليزر 1070 نانومتر).
المعيار	XDM 120	XDM 250	XDM 300	XDM 420/500	XDM 750	XDM 2000
مساحة البناء	120 مم × 120 مم × 100 مم	250 مم × 250 مم × 360 مم، أو 250 مم × 250 مم × 410 مم	300 مم × 300 مم × 410 مم	420 مم × 420 مم × 500 مم، أو 500 مم × 500 مم × 500 مم	750 مم × 750 مم × 500 مم	2000 مم × 2000 مم × 650 مم
طريقة تغذية المسحوق	تغذية ثنائية الاتجاه من الأعلى	تغذية من الأسفل	تغذية من الأسفل	تغذية مستمرة من الأعلى	تغذية مستمرة من الأعلى	تغذية مستمرة من الأعلى
تكوين الليزر	ليزر ليفي IPG بقدرة 200 واط / 500 واط	ليزر ليفي IPG بقدرة 500 واط	ليزر ليفي IPG بقدرة 500 واط / 500 واط × 2 / 500 واط × 4	ليزر ليفي IPG بقدرة 500 واط (XDM 420) / 500 واط × 4 (XDM 500)	ليزر ليفي IPG بقدرة 500 واط × 4	ليزر ليفي IPG بقدرة 500 واط × 6
وزن الجهاز	حوالي 700 كجم	حوالي 2 طن	حوالي 2.3 طن	حوالي 8 طن	حوالي 12 طن	حوالي 20 طن